半導體研磨廢水處理方法
來源:杭州純水設備??????2022-11-14 08:45:12??????點擊:
【杭州純化水設備http://x2platinum.com】零排放 近年來,隨著科技的一直提高和國民需求的日益增添,我國半導體消費行業得到了較快的發展,然而隨之而來是少量的半導體廢水排放問題,那么下面皙全環保就跟大家聊聊半導體研磨廢水處理方法。
在集成電路封裝制作過程中會對晶片進行切割和研磨,并且會運用超純水進行洗凈,這樣就發生了少量的切割研磨廢水。目前國內很多的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過濾方法處理的,出水到達污水綜合處理達標排放的規范。
半導體研磨廢水的處理方法,純水設備其特性在于,包含如下步驟:
(1)通過廢水搜集箱搜集硅片研磨發生的廢水;
(2)應用水泵將廢水泵入多介質過濾器進行一次過濾;
(3)將經過一次過濾的水送入保安過濾器進行第二次過濾,所述的保安過濾器用于掩護超濾膜;
(4)將經過第二次過濾的水送入超濾膜過濾安裝中進行第三次過濾;
(5)通過SDI測定儀或許濁度儀測定并判定經過第三次過濾的水能否契合欲先設定的規范請求,如契合規范請求,送入產水箱;純水設備。杭州純化水設備,杭州GMP純化水設備。 半導體純水設備。
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